最近 ,光刻芯片圈儿又有大往事了。何制
佳能搞出了个新的不用芯片制作配置装备部署 ,不用光刻技术 ,光刻就能造 5nm 的何制芯片。
而且说是不用再优化优化 , 2nm 制程也不是光刻啥大下场 。
这可先把一众网友们搞懵圈儿了,何制佳能奈何样欠好好造相机 ,不用跑进去搞造芯片的光刻机械了 ?
而且一动手便是 5nm 、 2nm 的何制。
而这,不用差评君就不患上不先帮佳能找补多少句了,光刻并不断以来,何制佳能在芯片制作配置装备部署上都有妄想,隔邻的尼康也是一个样 。
不外当初光刻机的顶尖技术不断都被 ASML 独占 ,佳能眼看追不上 ,于是在钻研光刻机的同时 ,又找了另一条赛道:纳米压印 。
这次往事的主角,也正是这个 “ 纳米压印 ” 技术,反正新闻一出 ,吃瓜公共们的反映是最冷落的 。
像是甚么“ 光刻机即将被取代,纳米压印战未来 ” “ ASML 这下要慌了,被换赛道超车了 ” 。 。。种种品评辩说看患上人一片沸腾 ,彷佛光刻机这玩意儿,之后只能在废品接管站里看到了似的。
差评君也去简陋清晰了一下,却发现使命比想象中的重大,且幽默 。
首先这些年来,光刻机的睁开已经逐渐走到一个瓶颈期,芯片制程的后退速率 ,也肉眼可见患上变慢 。
不比力就不伤害,反不雅睁开至今才二十多年的纳米压印技术,却是一个 “ 快 ” 字了患上 ,噌噌多少年就快要遇上光刻机的进度了。
比力上个世纪五十年月起步的光刻技术,速率直接翻了一倍多。
而且 ,新的纳米压印技术以及光刻机比照,不光老本也降了,致使制作工艺也贼重大 ,更适宜大规模破费 。
这么说吧,用光刻技术造芯片,总老本若是十块,光刻技术就患上花三块 ,光阴老本也占到总老本的一半。
比力之下 ,用纳米压印技术可能省掉快要三成的老本,若是晶圆吞吐量再提升一点 ,直接就能节约一泰半的老本 。
更紧张的是,纳米压印技术的工艺颇为重大 ,跟盖章同样,像下图这种印章列位差友们理当都见过概况玩过吧 。
纳米压印的道理呢,以及它差未多少,只不外是迷你微缩版。
制作的历程总共就分两步